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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 以TXRF分析來監控 離子植入機腔體內磷元素的交互污染 - Semicondutor Magazine
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日期：2025-04-26
Zhiyong Zhao, Amiya R. Ghatak-Roy, Tim Z. Hossain, Advanced Micro Devices Inc., Austin, Texas 一般而言，在晶圓廠中，普遍會利用離子植入機台來做一連串多種元素的植入。然而，對磷離子而言，若能嚴格控制和監控交互污染的情況，將更可成為一個有效的 ......看更多
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