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![半導體製程及原理]()
www2.nsysu.edu.tw半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等)，而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水：NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水：洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...瀏覽：662 -
![pcb原理]()
www2.nsysu.edu.tw印刷電路板之製程 流程 單面板 雙面板與多層板 製程簡介內容說明 主要製程單元： 乾式製程： 裁板、乾膜壓合、疊板壓層、鑽孔、成型裁邊 濕式製程： 內層刷磨、內層顯像、內層蝕刻、內層去墨或剝膜、黑 / 棕氧化 ...瀏覽：995
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日期：2024-04-22
科毅提供國內各大光電廠商優良之曝光機、塗佈機、光罩、平行光源、高靈敏CCD相機等光電儀器設備。並設有設有class 1000等級無塵室，提供光罩製作及製程設備測試之更佳 ......
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日期：2024-04-27
曝光原理 曝光製程 曝光光源系統 手動曝光機 自動曝光機 ... 高啟清博士 Charles Kao, Ph.D Tel: 02-2601-0700 Mobile: 0939-268-725 cckao@csun.com.tw V2.1 2007/4/10 課程綱要 多層板曝光製程 內層曝光顯影蝕刻 內層壓膜曝光設備 外層曝光電鍍蝕刻 外層曝光 ......
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日期：2024-04-24
白光發光二極管也導隨即面世，之後LED便朝增加光度的方向發展，當時一般的LED工作功率都小於30至60mW （毫瓦）。1999年輸入功率達1W（瓦）的發光二極管商品化。這些發光二極管都以特大的半導體晶片來處理高電能輸入的問題，而半導體晶片 ......
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日期：2024-04-26
曝光原理 曝光製程 曝光光源系統 手動曝光機 自動曝光機 ... 高啟清博士 Charles Kao, Ph.D Tel: 02-2601-0700 Mobile: 0939-268-725 cckao@csun.com.tw V2.1 2007/4/10 課程綱要 多層板製程 曝光製程 光阻曝光原理 曝光光源系統 曝光量測 多層板製程 多層板 ......
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日期：2024-04-21
多層板製程; 曝光製程; 光阻曝光原理; 曝光光源系統; 曝光量測 .... 塗佈→預烤→曝光→顯像→後烘烤→UV硬化 約0.8 mil厚，能量400~600 mj/cm2; 曝光時需抽真空使 ......
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日期：2024-04-21
燃燒器 帶氣流旋切噴射預燃室熱風爐內的旋流流場的特點 中心擴口對徑向濃淡旋流煤粉燃燒器出口氣固流動特性的影響 熔鋁爐專用燃燒器的特點 鍋爐水冷壁管向火側腐蝕原因及改進措施 鍋爐結焦原因危害以及如何預防...
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日期：2024-04-27
基本步驟，舊式技術. •晶圓清洗. •預烤. •底漆層和光阻的旋轉塗佈. •軟烘烤. •對準和曝光. •顯影. •圖案檢視. •硬烘烤. 光阻塗佈. 顯影 ......
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