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![光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務 - 東南科技 ...]()
www.me.tnu.edu.tw1990年12月25日 - 2.5 光阻塗佈機製程原理及關係式… … … … … … … … … … … … … … … … ...7.瀏覽：472 -
![黃光室流程環境光阻汞燈開啟 - NFC奈米中心 - 國立交通大學]()
www.nfc.nctu.edu.tw2005年2月24日 ... 原理：黃光室內照明使用黃光，波長較長，能量較 ..... 其他製程細節請參考實驗室工作 手冊。 顯微鏡. 1.瀏覽：1158
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日期：2024-05-11
2012年8月4日 ... 黃光微影的原理 ... 光學曝光、顯影、硬烤(Hard baking)將光罩圖形轉移到矽晶圓
表面氧化層上的動作稱為「圖形 ... 進行「黃光微影技術」將光罩上的圖形轉移到矽晶
圓上所使用的機器稱為「曝光機」，如＜圖3-22(a)＞所示，其圖形轉移的方式是「 ... ＞
Deep-UV：使用氟氣體雷射(F2雷射)，發出紫外光波長為157nm(奈米)。...
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日期：2024-05-15
浸潤式微影已迅速成為將193奈米掃瞄機推進到45奈米製程?點的最佳候選人。雖然浸潤式微影的未來看似已無阻礙，但是193奈米光阻與透鏡和晶圓間充填液體間相互影響的關鍵問題仍待解決。用以保護光阻，使光阻與充填液體之間不會互相污染的可能方法 ......
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日期：2024-05-09
濃縮及調配再生處理之光阻劑廢液，仍然能通過塗佈膜厚15000 ± 500 Å、均勻度. < 2.5%及含水率< ... 關鍵字：光阻劑、重複回收、冷風濃縮設備、塗佈膜厚預測方程式 ...... 手：(1)減少光罩製程次數；(2)更新塗佈設備光阻塗佈方式；(3)使用再生光阻劑；....
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日期：2024-05-14
本研究亦使用量產上的設備(如:光學薄膜測厚儀，光阻旋轉塗佈. 機，光學歩近式曝光機， ... 本研究透過一系列之評估實驗：Spin Coater 轉速、光阻塗佈均一. 性、Swing ......
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日期：2024-05-10
微影製程包括三個主要步驟：光阻塗佈、曝光和顯影。 ... Bake）、塗底（Priming）和光阻旋轉塗佈（Spin Coating）、軟烤（Soft Bake）、對準和曝光、顯影（Development）、 ......
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日期：2024-05-10
Array製程為TFT-LCD之最主要技術，其原理是在玻璃基板上利用導電體塗佈/ 微影照相及曝光顯像等技術，製作出電極基板，作為傳遞訊號/電壓控制之元件，而在LCD的Array線路製作中，需使用4-5道的光阻進行微影/蝕刻製程來完成線路，因此APR需求量 ......
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日期：2024-05-15
PS版為預塗式感光平版印刷版（Presensitized Offset Plate）之簡稱，於1950年由3M公司首先推出，即將感光液預先塗佈在版基表面所形成的一種膠印版材，為適應平版印刷的迅速發展而開發出來，PS版本身俱有分辨力高，網點再現飽滿...
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