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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 探討浸潤式微影光阻頂蓋層的需求與取捨 - Semicondutor Magazine
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日期：2025-06-19
浸潤式微影已迅速成為將193奈米掃瞄機推進到45奈米製程?點的最佳候選人。雖然浸潤式微影的未來看似已無阻礙，但是193奈米光阻與透鏡和晶圓間充填液體間相互影響的關鍵問題仍待解決。用以保護光阻，使光阻與充填液體之間不會互相污染的可能方法 ......看更多
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