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日期:2025-05-16
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日期:2025-05-10
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日期:2025-05-10
警告:版權所有,請勿隨意翻版使用。 原文與圖片請參照: Modern VLSI Design, Wenny Woof. 第二章 電晶體與佈局(layout) 2.1 簡介 我們在這一章將藉由學習電晶體和佈線的結構以及它們如何被製造的基礎知識,來開始學習 VLSI設計。...
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日期:2025-05-17
2014年1月6日 ... CMOS製程與光罩Page 1 CMOS –step 1 程作N-Well 區域? 生長氧化層? 上光阻
NWELL 光罩氧化層p-type 基板光阻Cross section view NWELL ......
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日期:2025-05-13
2011年3月16日 ... 上光阻NWELL 光罩氧化層p-type 基板光阻Cross section view 3 CMOS –step 1 程
作N-Well 區域? 生長氧化層? 上光阻? 光阻成像NWELL 光罩只 ......
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日期:2025-05-12
CMOS製程. 二技晶片四甲. 19637014. 陳韋廷. 2 ... Cross section view. p-type 基板
. NWELL 光罩. 氧化層. 光阻. 4. CMOS –step 1. 程作N-Well 區域. 生長氧化層; 上 ......
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日期:2025-05-16
N-Well CMOS製程-第一光罩. 一開始是一塊P型的矽基板,使用爐管(圖2)長出一層
二氧化矽,再經由旋轉塗布機(圖3)上光阻形成圖(1). 圖(1). 圖(2)氧化爐管....