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日期:2025-05-16
半導體製程 Oxidization (氧化處理) Lithography (微影) Etching (蝕刻) Diffusion 、Ion Implantation (擴散離子植入) Deposition (沉積) Wafer Inspection (晶圓檢查) Dicing (晶圓切割) Mounting (黏晶) Bonding (銲線) Molding (封膠) Testing (測試) Wafer Cutting (晶圓切 ......
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日期:2025-05-14
IC製造流程圖 後段製程 微機電概論 C-K Liang 半導體的製程 • 一般半導體的製程可區分為前製程作業 ... 半導體製程 概分為三類:(1)薄膜成長,(2)微影罩幕 ......
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日期:2025-05-17
5 半導體製程 概述 IC之製作過程是應用晶片氧化層(oxide)成長、微 影技術(lithography)、蝕刻(etching)、清洗、雜質 擴散(diffusion)、離子植入及薄膜沉積等技術,所 須製 ......
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日期:2025-05-17
小弟非電類科系畢業,但將來工作要瞭解基本的半導體製程以下是我看半導體製造
裝置一書所整理出來的 ......
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日期:2025-05-14
半導體製程技術概論, Introduction to Semiconductor. Manufacturing ..... 定義: 蝕刻
製程乃是將經過微影製程在表面定義出IC 電路圖案的晶圓,. 以化學腐蝕反應的 ......
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日期:2025-05-15
WAFER四大製程(應該是五製程) 黃光區(Photo) 蝕刻區(Etch) 薄膜區(Thinfin) 擴散
區(Diffusion) 離子植入 ......
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日期:2025-05-14
7 掺雜半導體: 擴散 ‧等向性 製程 ‧無法獨立控制掺雜接面深度與掺雜物濃 度 • 1970年代中期被離子佈植技術取代 8 掺雜半導體:離子佈植 ‧可獨立控制掺雜物濃度(離子束電流與佈 ......