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日期:2025-05-17
半導體製程設備 技術 Semiconductor Technology-Process and Equipment 作 者 楊子明、鍾昌貴、沈志彥、李美儀、吳鴻佑、詹家瑋 出版社別 五南 出版日期 ......
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日期:2025-05-19
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日期:2025-05-21
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2-2 大氣電漿設備原理[2] 氧氣經由電漿解離,會產生大量的自由基粒子(如下式),這些自由基粒子會與碳氫化合物及表面的氧化物起反應,尤其其中的氧自由基容易與油性物質或與低分子有機物產生揮發性的產物,輕易的被鈍性氣體帶走。如 ......
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日期:2025-05-16
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