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el.fotech.edu.tw對罩幕層 (大於4：1)、層間介電層 (大於20：1) 及底層有高選擇性。 在良好CD控制與沒有 微負載效應 ...瀏覽：792 -
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日期：2025-05-04
如题。。什么是微负载效应呢？和负载效应的区别在哪里什么是微负载效应呢,半导体
技术天地....
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日期：2025-05-01
如题，最近看了几篇文章，发现很多人把Lag效应和微负载效应（microloading effect）
混为一谈了，文章 ......
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日期：2025-05-07
第年月卷第航空精密制造技术期尹口八产吸田厂加' 绍口叼月刀河刀二氧化硅反应
离子刻蚀中的微负载效应研究乔大勇, 苑伟 ......
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日期：2025-05-05
在乾蝕刻(Dry etch) 製程過程中，因為蝕刻速率的不同有了微負載效應，以前為了
解決此效應使用了高介電常數(High-K) 的 ......
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日期：2025-05-02
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日期：2025-05-07
... 製程參數、電漿蝕刻設備與型態、終點偵測、各種物質(導體、半導體、絕緣體)蝕刻
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日期：2025-04-30
然而这种负载效应影响到干刻蚀的蚀刻率（Etch Rate）和选择比(Selectivity)而在产品
上出现严重的缺陷。本文阐述了负载 ......
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