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日期:2025-04-29
Title: 在奈米科技上準確地模擬 微負載效應下連線電容 Other Titles: Accurate Interconnect Capacitance Modeling ......
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日期:2025-05-04
使得蝕刻速率降低。面積越小,此現象越嚴重,亦即所謂的 微負載效應(Micro loading Effect) ......
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日期:2025-05-01
2-4-4 負載 效應 .16 2-5 結論 16 第三章 複晶矽閘極蝕刻 22 3-1 前言 .………………...22 3-2 蝕刻氣體的選擇 23 3-3 Fluorin Carbon ......
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日期:2025-05-04
5-1 簡介在積體電路製造過程中,常需要在晶圓上定義出極細微尺寸的圖案(Pattern),這些圖案主要的形成方式,乃是藉由蝕刻(Etching)技術,將微影(Micro-lithography)後 ... ......
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日期:2025-05-04
微負載效應 (Microloading Effect) 。 關鍵詞:半導體製程,蝕刻製程,二氧化矽,硬式遮蔽層。學位論文題目: 利用二氧化矽做為硬式遮蔽層對80 奈米蝕刻製程的影響 III ......
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日期:2025-05-02
... 的蝕刻速率又大於接觸窗的蝕刻速率, 區域的蝕刻速率又大於接觸窗的蝕刻速率, 亦 即 微負載效應 ......
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日期:2025-05-06
然而,加入虛設電介質柱,65%的銅會保留在這些墊中。在溝槽中的最終銅厚度因 微負載效應 ......
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日期:2025-05-06
... (導體、 半導體、絕緣體)蝕刻的介紹、 微負載效應及電漿導致損壞等。 5-1-1 蝕刻技術中的術語 5-1-1a 等向性與非等向性蝕刻( Isotropic ......