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![AST聚昌科技 - About]()
www.ast-taiwan.com.tw關於聚昌 公司沿革 經營理念 公司願景 服務項目 產品介紹 高密度電漿蝕刻 電子束蒸鍍 磁控濺鍍 晶圓熱壓黏合 電漿輔助化學氣相沉積 電漿去光阻 產品應用 III V 族化合物半導體 先進封裝 微系統製造 表面波元件瀏覽：792 -
![反應性射頻磁控濺鍍原理]()
eshare.stust.edu.tw反應性射頻磁控濺鍍原理. 濺鍍（sputtering）製程是使用電漿（plasma）對靶材進行 離子轟擊（ion bombardment），將靶材表面的原子撞擊出來。這些原子以氣體分子 ...瀏覽：1180
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日期：2024-04-16
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日期：2024-04-19
二、實驗原理. 電漿 (Plasma)是物質的第四態，內能和動能遠高於固態、液態和氣態，
因而可玆用於：. 1.材料加工製造：電弧融 ......
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日期：2024-04-16
何謂 ITO ? 透明導電膜 透明導電膜是指兼有高可視光透過率（可視光波長領域為380 ... 成出來的 結晶 性也會不同。100 ......
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日期：2024-04-21
一. 簡介 民國72年整合本院飛彈研究所材料科學組、航空研究所航空科學組及當時的核能研究所冶金組，奉國防部核定成立「材料研發中心」，以研發國防武器系統所需之特殊國防材料科技，設立8 個研究組分別從事金屬、陶瓷、複合材料及功能性材料研發。...
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日期：2024-04-21
目錄. 一、前言. 二、原理. 三、儀器廠商和規格. 四、實驗前注意事項. 五、自動濺鍍操作步驟 .... 中(一般為在真空充氬氣) 極高電壓下產生輝光放電形成電漿、則荷能正離....
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日期：2024-04-19
射頻磁控濺鍍機其基本原理乃根據離子濺射原理，當高能粒子（通常是由電場加速的 ... (1)真空系統: 腔體內徑為40 cm，高度為40 cm，基板的支撐座之直徑為76 mm； ......
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日期：2024-04-16
瞭解真空技術的基本知識；. 2．掌握低、高真空的獲得和測量的基本原理及方法；. 3． 瞭解真空鍍膜的基本知識；. 4．學習掌握蒸鍍鍍膜的基本原理和方法． 二、實驗原理....
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日期：2024-04-16
CVD法形成膜的原理簡單示於下圖。 ... 現在的半導體製程中，幾乎都不用蒸鍍法，
因此PVD法在元件製造上，只使用濺鍍法而已。 ◇ 濺鍍法是在高真空狀態下，利用氬
離子撞擊靶產生的濺鍍現象，將靶材的原子 ......
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