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日期:2025-04-29
Contents. 1. 製程原理簡介: a. 擴散→ oxidation, doping b. 薄膜→ CVD, PVD c. 微影 d. 蝕刻→ dry, wet etching e. 化學機械研磨CMP. 2. 製程整合簡介:....
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日期:2025-04-25
其採用既有的標準化半導體製程(CMOS process). 可將微電子電路以及微機電微細
結構以相同的設計. 介面整合在一個晶片 ......
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日期:2025-04-25
隨著可攜式裝置功能發展漸趨多元,對於 低功耗的需求也將更加迫切,此須於晶片 設計架構初期及早規畫;而另一大 ......
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日期:2025-04-30
摩爾定律預測,2015年16奈米的電晶體將邁入量產,然而16奈米目前卻有著難以突破的瓶頸。國家奈米元件實驗室研發的創新技術,讓整個微影製程縮減為只需一個步驟就可以完成,而且不需光罩、光阻,可大幅省下製程成本。...
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日期:2025-04-26
2013年3月1日 - tsmc Fab14 introduction. ○ 甚麼是半導體業. ○ 製程整合簡介 .... 半導體製程整合-CMOS. ○ CMOS cross section. ▫ NMOSFET + PMOSFET + ......
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日期:2025-04-26
高瞻計畫- IC製程簡介. 大安高工 電子科 張 洧 2008.4.8. 資料提供. 臺灣科技大學 電子工程系 陳伯奇教授. CMOS 製程介紹. CMOS 製程介紹. IC built on silicon ......
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日期:2025-04-25
2010年11月29日 - 標題:CMOS製程整合動畫,作者:許重傑,分類:許重傑,屬性:影片,發佈日期:2010-11-29 02:16:15....