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![瑞耘科技股份有限公司＜瑞耘科技股份有限公司創立於1998年3月，目標在成為『全球先進半導體前段製程設備』]()
www.104.com.tw營運範疇 垂直整合製造 半導體/先進封裝/平面顯示器/太陽能/LED/MEMS 等先進製造產業製程設備之關鍵零組件。 產品應用於設備製程包括：Etching、PVD、CVD、Ion Implantation and CMP等 。 零組件材料包括：鋁合金、不鏽鋼、鈦合金、 鎢、銅及其他特殊 ...瀏覽：1274 -
![化學機械拋光(CMP)為近年來積體電路製程中成長最快,最受重視 ...]()
140.123.122.205化學機械研磨(Chemical-Mechanical Polishing,CMP)為近年來IC製程中成長最快, 最受重視的一項技術。 其大幅成長的原因 ...瀏覽：785
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日期：2025-05-13
CMP製程雖為先進半導體製程之關鍵技術，但在無塵室中卻屬高污染性之製程(dirty
process)。由於製程中必須引入研磨 ......
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日期：2025-05-18
請問一下半導體製程裡面的Etch和CMP(Chemical mechanical polish)這兩者有
什麼不一樣啊?不是都把表層的東西清除掉 ......
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日期：2025-05-16
2014年12月9日 ... 近年來半導體製程越來越細緻，CMP製程的重要性也越發凸顯，根據摩爾定律，
半導體元件微縮需要全新 ......
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日期：2025-05-13
甚麼是化學機械研磨（CMP); 2.為何要使用化學機械研磨來從事半導體 製程加工; 3.
化學機械研磨/研磨機; 4.其他名詞解釋; 5....
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日期：2025-05-17
後閘極(gate-last)HKMG製程需要兩個新的化學機械研磨(CMP)製程，兩者對最終閘
極高度(gate height)與表面形 ......
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日期：2025-05-18
所需的平坦化只能藉著使用CMP製程而達到. ▫ 圖形尺寸> 0.35 μm, 其他的平坦化
方法可以用. 來滿足微影技術的景深需求 ......
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日期：2025-05-18
... 研磨墊調節器。在CMP製程中，研磨墊和鑽石調節器間的交互作用是個複雜的過程
，對CMP製程模組的成本有重要的影響....
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