search:pecvd電漿相關網頁資料

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        Plasma processing is a plasma-based material processing technology that aims at modifying the chemical and physical properties of a surface. Plasma processing techniques include: Plasma activation Plasma etching Plasma modification Corona treatment Plasma
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      • www.junsun.com.tw
        什麼是PECVD? 電漿輔助化學氣相沈積(PECVD)是CVD技術中的一種,其沈積 原理與一般CVD並沒有太大差異。PECVD ...
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    日期:2025-05-26
    電漿輔助化學氣相沈積(PECVD)是CVD技術中的一種,其沈積原理與一般CVD並 沒有太大差異。PECVD是使用電漿中化學 ......
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    日期:2025-05-25
    远距电浆增强化学气相沉积(Remote plasma-enhanced CVD, RPECVD):和 PECVD技术很相近的技术。但晶圆不直接放在 ......
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    日期:2025-05-26
    中文名稱, 電漿輔助化學氣相沉積系統, 英文名稱. Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition(PECVD). 儀器廠牌型號....
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    日期:2025-05-26
    Applied Producer Avila 電漿輔助化學氣相沉積(PECVD) 系統的高品質氮化矽和 氧化矽薄膜系列符合矽穿孔(TSV) 和其他 ......
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    日期:2025-05-23
    Applied Producer Celera PECVD (電漿輔助化學氣相沉積) 系統提供可調式壓縮及 伸張高應力氮化矽薄膜,可運用在45奈米 ......
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    日期:2025-05-24
    Applied Producer BLOk (屏障阻絕低介電常數k) 電漿輔助化學氣相沉積(PECVD) 系統可產生業界領先的超低介電常數銅 ......
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    日期:2025-05-23
    傳統的PECVD反應室中的游離化速率是多少? 答:百萬分之一到千萬分之一. 3.列出 電漿中三種重要的碰撞並說明其重要性。...
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    日期:2025-05-27
    電漿輔助化學氣相沉積 Model: PECVD-Clip Series. Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) ......