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Title: PECVD電漿Arcing之改善研究 On the reduction of the Plasma Arcing in a PECVD Chamber Authors: 彭元宗 ......
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研究,探討Ar 電漿與SiH4、H2 工作氣體對於製程腔 體內部流場及微晶矽薄膜沉積特性的影響。模擬部 ... 濃度分佈之影響。一般 ......
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日期:2025-12-04
近日 研究發現,對半導體材料施以 電漿 表面改質,可以大幅 改善 其光電特性表面 改質主要是利用惰性氣體原子的碰撞,會 ......
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本課程主要以COMSOL Multiphysics 4.3b內的 電漿模組(Plasma module)來模擬 電漿輔助化學氣相沉積( PECVD ......
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日期:2025-12-03
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