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反應離子刻蝕- 維基百科,自由的百科全書 - Wikipedia
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日期:2025-07-05
一個平行板式和感應耦合電漿體式所組合而成的RIE也是可以實現的。這一系統中,
ICP用來產生高濃度電漿體來加快蝕刻 ......看更多