電漿清潔原理的相關文章
電漿清潔原理的相關商品

奈米通訊。第六卷第一期 21.化學機械研磨後清洗技術簡介
瀏覽:1179
日期:2025-05-24
第六卷第一期 化學機械研磨後清洗技術簡介 蔡明蒔 國家奈米元件實驗室 前言 自1997年開始,半導體製程邁進0.5微米元件線幅以下,幾乎所有半導體製造廠開始採用化學機械研磨技術(Chemical Mechanical Polishing, CMP)。...看更多