感應耦合式電漿蝕刻系統

感應耦合式電漿蝕刻系統

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日期:2025-05-17
感應耦合式電漿蝕刻系統. (Inductive Couple Plasma Etcher, ICP Etcher). 標準製程 (Standard Recipes). • HAR (High Aspect Ratio) recipe: Etch Rate. ~3um/min....看更多