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感應耦合電漿離子蝕刻技術(I) Inductively Coupled Plasma Reactive ...
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日期:2025-05-07
2005年12月21日 ... 本中心的感應耦合電漿離子蝕刻製程技術,主要是利用電漿來進行蝕刻,具有較佳的
非等向性蝕刻。感應耦合電漿離子蝕刻(ICP) 為目前矽深蝕刻最 ......看更多