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感應耦合電漿離子蝕刻技術(II) Inductively Coupled Plasma Reactive ...
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日期：2025-12-13
2005年12月21日 ... 感應耦合電漿離子蝕刻系統包含非等向性蝕刻、保護製程及等向性蝕刻，Dry
SCREAM 製程技術利用上述特性，只需一道黃光製程及接續的ICP 製程 ......看更多
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