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日期：2025-06-02
一負偏壓(VB)時，使濺鍍系統的電位分布改變(電漿電壓Vp、基板偏壓VB、. 靶材電壓 VT，見圖2-3) ... 2-5.4 射頻濺鍍(RF sputtering) ... 電容時，壓降落在靶電極上，形成 自我偏壓(self-bias)促進靶材濺鍍效率，....看更多

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