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![凌嘉科技 - LINCOTEC Technology Co., Ltd.]()
lincotech.com.tw電漿清潔 (蝕刻)原理 : 利用高頻的電源所產生的電漿，來帶動氣體離子轟擊基底材料，以達到表面清潔 (蝕刻)的效果。 其功能包含了： 1. 表面活化 2. 表面清潔 3. 微蝕刻化 4. 交錯連結 5. 化學改質 能有效改善被處理素材的表面濕潤性與表面能、增加附著 ...瀏覽：1215 -
![Chapter 7 電漿的基礎原理 - 義守大學 I-Shou University]()
www.isu.edu.tw電漿的基礎原理 2 目標 • 列出至少三種用到電漿的半導體製程 • 列出電漿中的主要三種碰撞 • 說明平均自由路徑 • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程 • 列出兩 ...瀏覽：1453
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日期：2025-04-28
電漿原理 介紹 I. Principles of Plasma Generation + e-e-neutral atom ( Kinetic Energy ) gained = F．d = qξ．λ = q ( V/d e)λ λ: mean free path d e: electrode distance ξ: electric field V : electrode ......
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日期：2025-05-03
電漿原理 Author ui Last modified by ui Created Date 12/7/2012 1:03:00 AM Company ui ......
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日期：2025-05-04
2. 目標. • 列出至少三種用到電漿的半導體製程. • 列出電漿中的主要三種碰撞. • 說明平均自由路徑. • 說明電漿如何增強蝕刻及CVD 製程. • 列出兩種高密度電漿源 ......
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日期：2025-05-02
電漿基礎原理. 2. 電漿的成分. • 電漿是由中性原子或分子、電子(-）和正電離. 子所構成 ... 非常活潑. • 增進化學反應速率. • 對蝕刻製程和CVD來說非常重要. 8. 電漿 蝕刻....
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日期：2025-04-29
本文先對電漿現象及原理作概述，再針對電漿應用. 到蝕刻、濺鍍及輔助 ... 異，而一般用在PECVD 鍍膜的電漿源其解離率小於1%，近幾年由於對鍍膜要. 求的嚴苛， 如 ......
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日期：2025-05-04
2013年4月12日 ... 電漿工程原理. 與應用. 詹德均. 核能研究所物理組. 1. 核能研究所物理組. TEL: 03-
4711400 ext.7440 mail: djjan@iner.gov.tw. Plasma Engineering ......
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日期：2025-04-27
2010年4月2日 ... Valve. Pump. DC. Power. 解離反應 e-+X. 2. 2X+e-. 激發反應 e-+X. X*+e-. 離子化
反應e-+X. 2. X. 2. ++2e- e-+X. 2. 2X++3e-. 電漿原理介紹 ......
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日期：2025-04-30
物理雙月刊（廿八卷二期）2006 年4 月 441 環繞電流方向的時變磁場 (B)，此磁場穿透介電窗，於電漿腔中感應產生一與RF 電流反向之電場 (E)，此 電場加速電子並感應形成電漿電流 (Jp)。由於此電磁 感應機制與與變壓器原理相同，其中線圈為變壓器之...
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