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蒸鍍
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日期：2025-05-23
CVD法形成膜的原理簡單示於下圖。 ... 現在的半導體製程中，幾乎都不用蒸鍍法，
因此PVD法在元件製造上，只使用濺鍍法而已。 ◇ 濺鍍法是在高真空狀態下，利用氬
離子撞擊靶產生的濺鍍現象，將靶材的原子 ......看更多
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