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  銅銦鎵硒(CIGS)太陽能電池－非真空製程技術發展簡介 2008/12/23 [ 友善列印 | 推薦好友 ] 薄膜太陽能電池有許多不同的類型，如非晶矽(a-Si)、砷化鎵(GaAs)、碲化鎘(CdTe)、硫化鎘(CdS)、銅銦鎵硒(CIGS)化合物以及多接面型式的薄膜太陽能電池，其中最具 ...
  
  2024-04-20
  
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  銅銦鎵硒(CIGS)太陽能電池－共蒸鍍 ... 在CIGS 太陽能電池應用中，共蒸鍍技術是最傳統的一項技術，使用熱蒸鍍技術(Thermal Evaporation)同時蒸鍍數種材料，以原子或是分子的型態蒸鍍到加熱的基板上，與傳統的分子束磊晶(Molecular Beam Epitaxy; MBE)原理相同，利用熱阻 ...
  
  2024-04-22
  
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鍍鋁反射鏡,Al Mirrors, 岳華展光電

日期：2024-04-19

鋁反射鏡是以氧化鋁膜及透明保護膜所鍍製而成，能以各種角度反射紫外線、可見光及近紅外線。配合耐熱基材可耐高溫，使用壽命長、不易氧化。...

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濺鍍原理

日期：2024-04-25

濺鍍原理 2009-01-26 更新濺鍍原理在高溫被離子化的氣體極稱為電漿(plasma)。基本上電漿是由部份解離的氣體及等量的帶正、負電荷粒子所組成，其中所含的氣體具備高度的活性，通常是利用外加電場的驅動而形成，並且會產生輝光放電(Glow Discharge)的 ......

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薄膜之殘留應力分析 - 國研院儀科中心

日期：2024-04-22

牛頓環法本法是利用基板在真空鍍膜後，薄膜產生的彎曲面與一參考平面，產生干涉條紋的牛頓環，利用量測到的牛頓環間距與條紋數，推算基板的曲率半徑 R，其中 R 與牛頓環直徑之平方差成正比，並與波長的 4 倍、牛頓環條紋數的差成反比，將所求得 ......

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(急件)蒸鍍與濺鍍的原理? 高手請進贈二十點- Yahoo!奇摩知識+

日期：2024-04-23

2007年2月28日 - 本次微機電的實驗為使用濺鍍的方式來進行薄膜沉積。 http://www2.nkfust.edu.tw/~jcyu/Course/MEMS Lab/q.pdf. 蒸鍍. 蒸鍍鍍膜就是在真空中通過電流加熱、電子束轟擊加熱和鐳射加熱等方法，使薄膜 .... 濺鍍機原理與應用為何?...

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電子鎗真空蒸鍍系統（E-Gun System） - 國立清華大學奈微與材料科技中心

日期：2024-04-22

電子鎗真空蒸鍍系統（ E-Gun System ）委託代工開機費 (2hr) 2,900 元 / 次 4,350 元 / 次 5,800 元 / 次 ......

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化學氣相沉積 - 維基百科，自由的百科全書

日期：2024-04-22

化學氣相沉積（英語：Chemical Vapor Deposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將晶圓（基底）暴露在一種或多種不同的前驅物下，在基底表面發生化學反應或/及化學分解 ......

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臺灣鍍膜科技股份有限公司

日期：2024-04-20

PVD是什麼? 2009/6/18 物理氣相沉積法（Physical Vapor Deposition)，簡稱PVD。 PVD一般區分為三種，分別是真空蒸著(Vacuum Evaporation)、濺鍍(Sputtering)、離子鍍著(Ion Plating)。 ①真空蒸著(Vacuum Evaporation) 金屬在真空中加熱時會變成氣體而蒸發 ......

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