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臺灣鍍膜科技股份有限公司
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日期：2025-10-21
PVD是什麼? 2009/6/18 物理氣相沉積法（Physical Vapor Deposition)，簡稱PVD。 PVD一般區分為三種，分別是真空蒸著(Vacuum Evaporation)、濺鍍(Sputtering)、離子鍍著(Ion Plating)。 ①真空蒸著(Vacuum Evaporation) 金屬在真空中加熱時會變成氣體而蒸發 ......看更多
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