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日期：2024-04-22
銅銦鎵硒(CIGS)太陽能電池－共蒸鍍 ... 在CIGS 太陽能電池應用中，共蒸鍍技術是最傳統的一項技術，使用熱蒸鍍技術(Thermal Evaporation)同時蒸鍍數種材料，以原子或是分子的型態蒸鍍到加熱的基板上，與傳統的分子束磊晶(Molecular Beam Epitaxy; MBE)原理相同，利用熱阻 ......
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日期：2024-04-23
前開式液晶注入機（LCD ） 應用： 詳細規格 >> 軟體下載 Adobe Reader 公司：台北市八德路三段81號3樓之一 Taipei: 3F-1, No.81, Sec.3, Bade Rd., Taipei Taiwan 105, R.O.C. 電話：886-2-25792619 ......
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日期：2024-04-20
離子幫浦為一種吸附幫浦，其工作原理是利用高壓讓氣體分子游離，並藉由電場的吸引撞入鈦板，經與鈦金屬板作用而埋入金屬板之內。由於這種吸附式的幫浦，其氣體是有進無出，且沒有直接與大氣環境接觸，所以屬於封閉型的幫浦，而且一旦鈦板埋入 ......
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日期：2024-04-21
化學氣相沉積（英語：Chemical Vapor Deposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將晶圓（基底）暴露在一種或多種不同的前驅物下，在基底表面發生化學反應或/及化學分解 ......
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日期：2024-04-19
被覆力、厚度、銲接性等，皆是考慮因素，此外，為達到適當管理與鍍浴穩定性，如何分析、補充，都是應考慮的操作要點。 一般金屬物品之詳細電鍍程序如圖一所示。 圖一、電鍍流程圖 對於欲電鍍物件之材質、形狀、加工後情況，必須選擇適當處理 ......
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日期：2024-04-23
什麼是E-beam Deposition？ 早期製備薄膜多半是利用真空熱阻式蒸鍍法，但由於待
鍍材料與作為承載器的加熱源直接接觸，因此可用的蒸鍍材料種類與所得到的薄膜 ......
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日期：2024-04-22
薄膜製備的方法主要有真空蒸鍍、濺射、分子束蒸鍍、化學鍍膜等．真空鍍膜，是指在
真空條件中採用蒸鍍和濺射等技術使鍍膜材料氣化，並在一定條件下使氣化的原子 ......
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日期：2024-04-23
真空腔及蒸鍍系統. 蒸鍍材料：銅. 電阻器：鎢舟. 三.實驗原理: A、抽氣機--. 真空度是
蒸鍍薄膜的一個首要條件，其主要原因為：. (1)降低氣壓，可減少蒸發物質與剩餘氣體
......
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