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www.materialsnet.com.tw銅銦鎵硒(CIGS)太陽能電池－共蒸鍍 ... 在CIGS 太陽能電池應用中，共蒸鍍技術是最傳統的一項技術，使用熱蒸鍍技術(Thermal Evaporation)同時蒸鍍數種材料，以原子或是分子的型態蒸鍍到加熱的基板上，與傳統的分子束磊晶(Molecular Beam Epitaxy; MBE)原理相同，利用熱阻 ...瀏覽：1156
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日期：2024-04-12
蒸鍍(deposition），將 金屬 和酸化物等 蒸發 ，使其於素材的表面附著形成一層薄膜的一種方法。蒸鍍可大略分為 物理蒸鍍 （PVD）與 化學蒸鍍 (CVD)兩種。 接下來以PVD的一種真空蒸鍍來說明。 半導體器件製造 有機金屬化學氣相沉積法 電漿製程 取自「 http ......
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日期：2024-04-17
濺鍍原理 2009-01-26 更新 濺鍍原理 在高溫被離子化的氣體極稱為電漿(plasma)。基本上電漿是由部 份解離的氣體及等量的帶正、負電荷粒子所組成，其中所含的氣體具備高度的活性，通常是利用外加電場的驅動而形成，並且會產生輝光 放電(Glow Discharge)的 ......
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日期：2024-04-19
離子幫浦為一種吸附幫浦，其工作原理是利用高壓讓氣體分子游離，並藉由電場的吸引撞入鈦板，經與鈦金屬板作用而埋入金屬板之內。由於這種吸附式的幫浦，其氣體是有進無出，且沒有直接與大氣環境接觸，所以屬於封閉型的幫浦，而且一旦鈦板埋入 ......
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日期：2024-04-12
pfeiffer vacuum,德國普發,inTEST Thermal Solutions,KRI 離子源,離子槍,氦質譜測漏儀,分子泵,4Wave...
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日期：2024-04-17
3-1 蒸鍍(Evaporation)原理. 蒸鍍是 ..... PECVD的沈積原理與一般的CVD之間並沒有太大的差異。電漿中的 ......
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日期：2024-04-19
電子束蒸鍍機的原理與應用 ... (2)薄膜的氣態原子或分子或離子穿過真空抵達基 ... K
)，L與抽真空後之真空腔內的氣壓之關....
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日期：2024-04-18
A、抽氣機--. 真空度是蒸鍍薄膜的一個首要條件，其主要原因為：. (1)降低氣壓，可
減少蒸發物質與 ......
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日期：2024-04-14
蒸鍍鍍膜就是在真空中通過電流加熱、電子束轟擊加熱和鐳射加熱等方法，使 .... 濺
鍍機原理與應用為何?...
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