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365nm紫外光發光二極體應用於n型氮化鎵光電化學濕蝕刻__國立清華大學博碩士論文全文影像系統
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日期：2024-05-21
由於採用濕蝕刻製程可獲得相當多的好處，近年來氮化鎵濕蝕刻技術的開發越來越受到矚目。首先，濕蝕刻過程不會造成表面缺陷因此可以改善元件特性，接下來，由於濕蝕刻可以簡化製程步驟和縮短所需的製程時間，所以有利於大量製造，若以成本減少 ......看更多
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