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  半導體製程及原理
  
  半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等)，而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水：NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水：洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...
  
  2024-06-02
  
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  2024-06-01
  
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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 先進半導體製程與材料選擇 - Semicondutor Magazine

日期：2024-05-29

圖二：2007年Intel推出以High K Metal Gate的Penryn晶片(45nm)。半導體的三國演義值得注意的是，IBM不僅將移轉45nm的技術給晶圓代工的韓國三星(Samsung)及新加坡特許(Chartered Semiconductor)，更將技術賣給了中國的中芯。...

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半導體製程技術

日期：2024-05-28

Introduction to fabricated Integrated Circuits Semiconductor Material and Device Oxidation and Diffusion ......

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半導體科技.先進封裝與測試雜誌 - 半導體製程排氣之安全管理 - Semicondutor Magazine

日期：2024-05-28

林義凱 / 台積電三廠工安環保部劉美娟 / 工研院材料所工業安全衛生室分析半導體產業1986年至1996年之災害，我們發現通風排氣系統(包含Fume Exhaust、HVAC、Gas Cabinet、Local Scrubber)為災害發生之主要原因。本文就以介紹半導體廠務製程排氣(fume ......

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行業製程減廢及污染防治技術－半導體業介紹

日期：2024-06-04

環保技術輔導計畫晶圓初成品清洗氯化爐第一層光罩擴散爐第二層光罩氧化爐第三層光罩濺鍍機第四層光罩晶圓成品 (初步氧化) (P 區光阻、蝕刻、清洗) (擴散、離子植入) (閘區及接點區光阻、蝕刻、...

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台積電運用大資料分析創造半導體製程技術優勢 | iThome

日期：2024-06-03

晶圓製程從20奈米縮小到10奈米，電路線的寬度就得精準到做進一根頭髮的1萬分之一，到底台積 ......

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從微米走向奈米半導體製程推進難關不斷 - 學技術 - 新電子科技雜誌

日期：2024-06-01

根據新修訂ITRS(International Technology Roadmap for Semiconductors)技術藍圖，清楚地指出目前半導體製程技術，已經從早期微米以上製程不斷地微縮，經過0.1微米以下，進入到「奈米」世代... 根據新修訂ITRS(International Technology Roadmap for...

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