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日期:2025-12-16
PVD是什麼? 2009/6/18 物理氣相沉積法(Physical Vapor Deposition),簡稱PVD。 PVD一般區分為三種,分別是真空蒸著(Vacuum Evaporation)、濺鍍(Sputtering)、離子鍍著(Ion Plating)。 ①真空蒸著(Vacuum Evaporation) 金屬在真空中加熱時會變成氣體而蒸發 ......
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日期:2025-12-17
冠晶光電股份有限公司,光電產業,一、 公司簡介 冠晶光電九十五年成立之目的是要從事替代能源之製程技術開發及生產,與一般台灣企業不同的是,我們並非進入技術已成熟之一般太陽能電池產業,而是致力於次世代CIGS太陽能電池之研發;秉持創新開發 ......
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日期:2025-12-13
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日期:2025-12-15
行動版 - 超高真空雙電子束蒸鍍 (UHV-Dual ... 鎧柏科技自行研發的FBB-Ebeam鍍膜監控軟體使得雙電子束蒸鍍系統得以進行全自動的鍍膜並讓操作者可以輕鬆使用本系统。 Picture ... 鎧柏設備簡介:...
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日期:2025-12-19
本專題所進行的是熱蒸鍍機與高溫爐管的實習,除了對機台的製程. 原理了解外,也對機台操作流程有完整的學習,包括仔細的紀錄下每. 一個步驟與操作。 在半導體製程的物理氣相沉積技術中, ......




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