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半導體製程設備 - 第 160 頁 - Google 圖書結果
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日期：2025-12-12
5 ,孫旭昌等,氟化非晶相碳膜製程參數及熱穩定性之研究(一) ,毫微米通訊;,pp.22~28,2000。 6 .張勁燕,電子材料,第四章,五南, 1 999 。 7 .張鼎張。胡榮冶,金屬化學氣相 ......看更多
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