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反應離子刻蝕- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
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日期：2025-06-03
反應離子刻蝕（英文：Reactive-Ion Etching，或簡寫為RIE）是一種半導體生產加工
工藝，它利用由電漿體強化後的反應 ... 電漿體的濃度可達非常高，但是蝕刻會變得
更加各向同性。 一個平行板式和感應耦合電漿體式所組合而成的RIE也是可以實現的
。...看更多
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