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化學氣相沉積 - 維基百科，自由的百科全書

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日期：2025-05-19
化學氣相沉積（英語：Chemical Vapor Deposition，簡稱CVD）是一種用來產生純度高、效能好的固態材料的化學技術。半導體產業使用此技術來成長薄膜。典型的CVD製程是將晶圓（基底）暴露在一種或多種不同的前驅物下，在基底表面發生化學反應或/及化學分解 ......看更多

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