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日期:2024-04-29
17 蝕刻均勻性 ‧蝕刻均勻性是測量製程的重複性,包括晶圓 內(Within-wafer ,WIW) 及晶圓間(Wafer-to-wafer, WTW)的均勻性 • 測量晶圓上特定點在蝕刻製程前後的厚度 • 測量位置點愈多,準確度愈高 • 通常採用標準偏差(Standard deviation, σ)...
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日期:2024-04-27
乾式蝕刻技術(電漿蝕刻技術) Introduction JEIN your dedicated collaboration partner NEW JEIN INDUSTRIAL CO., LTD. 1 www.newjein.com.tw 總合研究所(捷胤工業) 電漿蝕刻簡介 自1970年代以來元件製造首先開始採用電漿蝕刻技術,對於電漿化學新的瞭 解與 ......
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日期:2024-04-25
Bewise Inc. www.tool-tool.com Reference source from the internet. 蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。 蝕 刻技術可以分為『濕蝕刻』(wet etching)及『乾...
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日期:2024-04-28
乾式蝕刻簡介 所謂的乾蝕刻 ,主要是利用電漿 (Plasma),而非濕式的溶液來對薄膜進行侵蝕的一種技術,因為蝕刻反應不涉及溶液,所以稱之為乾式蝕刻。其主要優點是蝕刻為非等向性,亦即垂直方向的速率遠大於橫向的速率 ......
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日期:2024-04-27
反應式離子乾蝕刻 機台: ULVC 3000 乾蝕刻機 Gas system: SF6, CF4 製程: ‧ Silicon oxide etch ‧ Silicon nitride etch ‧ Polymer discumm...
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日期:2024-04-25
於濺擊蝕刻與電漿蝕刻之間的乾蝕刻 技術,藉由結合物理與化學兩種蝕刻技術,得以兼 具兩種技術的優點。電漿蝕刻的蝕刻率主要由三項因子決 定:中性原子 ( n e u t r al atom) 和自由基 ( f re e ......
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日期:2024-04-23
請問各位大大 ,乾蝕刻的設備工程師的工作內容為何?我只知道是用氣體來蝕刻,但比較常接觸到的化學氣體為何?何者有毒,在機台維護時,是否裡面的化學氣體都抽的很乾淨呢?請幫我解答,感恩,剛出社會的小伙子。奉上10點......
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日期:2024-04-24
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