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反應離子刻蝕- 維基百科，自由的百科全書 - Wikipedia
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日期：2025-10-04
比如，六氟化硫經常用來蝕刻矽。通過調節氣體流速以及排氣孔，氣壓一般被保持在幾托（Torr）至幾百托， 其他RIE系統包括感應耦合電漿體RIE（inductively coupled ......看更多
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