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第一章緒論 - 國立雲林科技大學
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日期：2025-05-23
在清洗矽表面的步驟中，氫氟酸(HF)為一極重要的溶劑，其最主要對矽的化. 學特性為HF 會 ... 蝕刻速率，對二氧化矽的蝕刻速率為100~200nm/min，而對矽之蝕刻速率 只. 有~1nm/min[23]，故我 ......看更多
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