search:hf蝕刻相關網頁資料
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![Chapter 9 蝕刻 - 義守大學 I-Shou University]()
www.isu.edu.tw17 蝕刻均勻性 ‧蝕刻均勻性是測量製程的重複性，包括晶圓 內(Within-wafer ,WIW) 及晶圓間(Wafer-to-wafer, WTW)的均勻性 • 測量晶圓上特定點在蝕刻製程前後的厚度 • 測量位置點愈多，準確度愈高 • 通常採用標準偏差(Standard deviation, σ)瀏覽：1014 -
![半導體濕蝕刻洗淨設備]()
www.sanlien.com五、濕蝕刻設備清潔法 濕蝕刻 設備的清潔法主要有晶圓沖洗式、超音波清洗、噴灑式清潔、刷洗，清洗後必須 將晶圓乾燥。下面針對最常用的清潔法--晶圓沖 洗式作更詳細的介紹 ...瀏覽：1101
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9 乾式蝕刻的原理 乾式蝕刻是以電漿，而非濕式的溶液，來進行薄膜蝕刻的 一種技術。 乾蝕刻的優點為非等向性蝕刻。 乾蝕刻的非等向性主要是利用粒子轟擊的物理現象進行，這種粒子轟擊的現象，不但可以在被蝕刻的薄膜上進行，...
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乾式蝕刻是以電漿，而非濕式的溶液，來進行薄膜蝕刻的. 一種技術。 ◇乾蝕刻的
優點為非等向性蝕刻。 ◇乾蝕刻的非等向性 ......
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2010年10月15日 ... Taiwan Maxwave Co., Ltd. 物質安全資料表 ... 氫氟酸7664-39-3﹔氟化銨12125-01
-8. 四、急救措施....
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