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        Chapter 9 蝕刻
        敘述電漿蝕刻製程的順序. ‧瞭解蝕刻 .... 氧電漿灰化(Oxygen plasma ashing):有機 ..... 光感測器可偵測顏色變化，指出電漿蝕.
        2025-05-01
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        氫氟酸濃度需達到多少才能夠溶解矽化物? - Yahoo!奇摩知識+
        氫氟酸能分解石英玻璃，反應式如下：SiO2+6HF→H2SiF6→2HF+SiF4↑。 .... 經常被做為蝕刻阻擋層(Etchmask)的材料有氮化矽和二氧化矽，對這兩種材料的蝕刻 ...
        2025-05-02
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    襯墊氧化層
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    日期：2025-05-04
    選擇性蝕刻將IC光阻上的設計圖形轉移至晶圓表面層. ▫. Major Concern: Rate ... 在 處理圖案化蝕刻時，電漿蝕刻逐漸取代濕式蝕刻. 濕式蝕刻. ▫. 化學溶液溶解晶圓 ... 濕式蝕刻的缺點. ▫. 等向性的蝕刻輪廓. ▫....
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    第一章緒論 - 國立雲林科技大學
    瀏覽：899
    日期：2025-05-03
    在清洗矽表面的步驟中，氫氟酸(HF)為一極重要的溶劑，其最主要對矽的化. 學特性為HF 會 ... 蝕刻速率，對二氧化矽的蝕刻速率為100~200nm/min，而對矽之蝕刻速率 只. 有~1nm/min[23]，故我 ......
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    國立清華大學奈微與材料科技中心
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    日期：2025-05-07
    去除硼玻璃(圖3-1)去含硼氧化矽專用10：1 HF槽專門用來蝕刻含硼成份的氧化矽，如: 經硼擴散 .... 蝕刻速率：約 1000 ~ 3000 Å/min〈僅供參考，通常用目測氣泡生成的速率決定是否蝕刻完畢〉。...
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    t - 國立中央大學
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    日期：2025-05-05
    研究結果可得，不同遮罩圖形之X方向與Y方向各結構平面的蝕刻率，. 且由側向蝕刻與縱向蝕刻建立蝕刻關係式，並 ..... 圖2.6 氫氟酸(HF)濃度與蝕刻率之變化[29]........... ...................................... 18....
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    Re: [問題] BOE蝕刻4um圓的二氧化矽- 看板NEMS - 批踢踢實業坊
    瀏覽：707
    日期：2025-05-03
    BOE對SiO2 的蝕刻速率與SiO2 的製成方式"高度相關"。SiO2膜品質(品質最緻密與電子 ......
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    Lab2 二氧化矽(SiO 2)遮罩蝕刻 - 國立高雄第一科技大學
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    日期：2025-05-01
    進行蝕刻，其餘未被BOE 蝕刻之部分則當作TMAH 蝕刻矽時的阻擋層，最後形成開孔 ... 為之，二氧化矽則可以BOE 蝕刻（高溫氧化層以BOE 的蝕刻速率約為1000Å/ min）， ... BOE 蝕刻液含氫氟酸(HF)，使用應特別小心。...
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    2. 濕式蝕刻製程 - 弘塑科技股份有限公司
    瀏覽：961
    日期：2025-05-05
    利用氫氟酸來蝕刻二氧化矽層的機制中，決定蝕刻速率的是[HF2-]濃度，若HF濃度保持固定且緩衝溶液 ......
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    朱安國博士非等向性蝕刻製程於 - eThesys 國立中山大學學位 ...
    瀏覽：509
    日期：2025-05-03
    圖5-9 BOE 蝕刻完成之圖形. 46. 圖5-10 ... 向蝕刻速率相同的等向性蝕刻(isotropic etching)，早期被應用於化學. 性拋光及 ...... 於採用SiO2 為保護材料的製程中，以氫氟酸(HF)作濕蝕刻SiO2....
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