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www.isu.edu.tw敘述電漿蝕刻製程的順序. ‧瞭解蝕刻 .... 氧電漿灰化(Oxygen plasma ashing):有機 ..... 光感測器可偵測顏色變化，指出電漿蝕.瀏覽：314 -
![化學清洗蝕刻區標準操作程序]()
memo.cgu.edu.tw在超大型積體電路(ULSI)製程中，晶圓洗淨之技術及潔淨度. (Cleanliness) ，是影響 晶 ... 污染物對半導體元件電性的影響. 1.瀏覽：979
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處理圖案化蝕刻時，電漿蝕刻逐漸取代濕式蝕刻. 濕式蝕刻. ▫. 化學溶液溶解晶圓 ...
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2010年10月15日 ... Taiwan Maxwave Co., Ltd. 物質安全資料表 ... 氫氟酸7664-39-3﹔氟化銨12125-01
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利用氫氟酸來蝕刻二氧化矽層的機制中，決定蝕刻速率的是[HF2-]濃度，若HF濃度保持固定且緩衝溶液 ......
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請問氫氟酸對此二種金屬的反應( 鋁Al與金Au )鋁和金是否耐的住氫氟酸，如不行
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電化學蝕刻形成多孔矽(porous silicon)的基本機. 制如圖一所示[3-5]：矽晶片的表面
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