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2. 濕式蝕刻製程 - 弘塑科技股份有限公司

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日期：2025-12-16
利用氫氟酸來蝕刻二氧化矽層的機制中，決定蝕刻速率的是[HF2-]濃度，若HF濃度保持固定且緩衝溶液 ......看更多

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