PECVD報告

PECVD報告

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日期:2025-12-18
不同DLC設備成膜方法比較. 成膜原理. 陰極電弧法. 電漿化學氣相沈積非平衡磁控濺鍍. ARC. Plasma CVD. UBMS. 成膜原料. 固體碳. C2H2 (氣體). 固體碳. 成膜溫度....看更多