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![場發射掃描穿透式球差修正電子顯微鏡(ULTRA－HRTEM)]()
www.nscric.nthu.edu.tw儀器中文名稱：場發射掃描穿透式球差修正電子顯微鏡 http://www.nscric.nthu.edu.tw/EM/ 儀器英文名稱：Spherical-aberration Corrected Field Emission ...瀏覽：1455 -
![::: 國立中央大學 - 研究發展處 :::]()
www.ncu.edu.tw1. LV-SEM主體：在一般及低真空下 ( 1-270 pa ) 對表面及立體結構之觀察及照相 2. 鍍金 ( 碳 ) 機：在樣品表面鍍導電金膜碳膜 3. EDS 系統：分析樣品之元素 ( B-U ) 4. EBSD 系統：決定樣品中小區域晶體結構 5. 冷凍樣品座：快速冷凍樣品及 in-situ 鍍膜用瀏覽：944
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日期：2025-05-05
場發射穿透式電子顯微鏡 適用於固體奈米材料、半導體電子材料、陶瓷礦物材料、金屬材料、生醫材料、高分子材料等。以場發射 200KV 高能量電子穿透試片，具穿透及掃描功能，可觀察物體之形貌、量測尺寸、分析材料內部之微細組織、缺陷及晶體結構。...
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日期：2025-05-11
場發射穿透式電子顯微鏡(FE-TEM)主要規格 1.場發射穿透式電子顯微鏡(FE-TEM) ‧加速電壓：200KV ‧放大倍率：X 50 to 1500K ‧解像度：Point Resoltion：≦0.23nm；Lattice Resoltion：≦0.1nm ‧聚焦束繞射(CBED)：Convergent Angle：1.5~20 mrad...
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日期：2025-05-11
材料發展進入奈米世界，場發射穿透式電子顯微鏡成為奈米材料分析之利器，原子級高解析 ... 定，另加裝掃瞄系統，可為掃瞄穿透式電子顯微鏡，使其功能更臻完備。...
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日期：2025-05-09
關鍵詞：場發射式掃瞄式電子顯微鏡、 FESEM 、材料微結構分析. SEM 之發展與工作原理. 電子顯微鏡的發展，最早在1931 年首. 先發展穿透式電子顯微鏡(TEM;....
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日期：2025-05-10
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日期：2025-05-05
200kV場發射槍穿透式電子顯微鏡(FEI Tecnai G2 F20) ... 可進行材料試樣微區影像分析，包含收集高解析影像、明視野像、暗視野像、電子繞射圖樣以及EDX微區定性/ ......
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日期：2025-05-06
掃描電子顯微鏡. (Scanning Electron Microscope, SEM). ❖場發射掃描電子顯微鏡. (Field-Emission Scanning Electron. Microscope, FESEM). ❖穿透式電子顯微鏡....
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