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日期:2025-05-01
2007年2月28日 - PECVD - Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 電漿輔助化學氣相沈積 電漿輔助化學氣相沈積(PECVD)系統使用電漿的輔助能量,使得沈積 ......
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日期:2025-05-04
什麼是PECVD? 電漿輔助化學氣相沈積(PECVD)是CVD技術中的一種,其沈積原理與一般CVD並沒有太大差異。PECVD是使用電漿中化學活性較高的離子與自由 ......
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日期:2025-05-02
電漿輔助化學氣相沈積(PECVD)是CVD技術中的一種,其沈積原理與一般CVD並沒有太大差異。PECVD是使用電漿中化學活性較高的離子與自由基等高能物種來 ......
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日期:2025-05-05
本文先對電漿現象及原理作概述,再針對電漿應用. 到蝕刻、濺鍍及輔助 ... 異,而一般用在PECVD 鍍膜的電漿源其解離率小於1%,近幾年由於對鍍膜要. 求的嚴苛, 如 ......
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日期:2025-05-03
不同DLC設備成膜方法比較. 成膜原理. 陰極電弧法. 電漿化學氣相沈積非平衡磁控濺鍍. ARC. Plasma CVD. UBMS. 成膜原料. 固體碳. C2H2 (氣體). 固體碳. 成膜溫度....
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日期:2025-05-02
什麼是PECVD? 電漿輔助化學氣相沈積(PECVD)是CVD技術中的一種,其沈積原理與一般CVD並沒有太大差異。PECVD是使用電漿中化學活性較高的離子與自由 ......
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日期:2025-04-30
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日期:2025-05-04
人類生活中隨處存在電漿(Plasma)蹤影和應用,舉凡閃電、極光、電漿顯示器和霓虹燈…等都是電漿的行為呈現。電漿原理的了解和其特性之應用在近期是很熱門的 ......