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  半導體製程及原理
  
  半導體工業的製造方法是在矽半導體上製造電子元件 (產品包括:動態記憶體、靜態記億體、微虛理器…等)，而電子元件之完成則由精密 ... (5)純水設備再生廢水：NaOH、HCl、H 2 O 2。 (6)濕式洗滌塔廢水：洗滌廢氣所含之污染質。 2. IC構裝製造作業主要污染源為切割 ...
  
  2024-04-17
  
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  Chapter 9 蝕刻 - 義守大學 I-Shou University
  
  17 蝕刻均勻性 ‧蝕刻均勻性是測量製程的重複性，包括晶圓內(Within-wafer ,WIW) 及晶圓間(Wafer-to-wafer, WTW)的均勻性 • 測量晶圓上特定點在蝕刻製程前後的厚度 • 測量位置點愈多，準確度愈高 • 通常採用標準偏差(Standard deviation, σ)
  
  2024-04-15
  
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日期：2024-04-10

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投影片 1

日期：2024-04-13

Precise grinding & polishing Student: wenjheng Lin Adviser: Liren Tsai 反應式離子蝕刻示意圖擷取自:NCKU Micro-Nano Technology Center/Southern Region MEMS Center 本文件及文件之內容屬國科會南區微系統研究中心所有，謹供列印閱讀，未經許可，請勿以 ......

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